Zwei-Photonen-Lithographie

Beim 3D-Druck mit Zwei-Photonen-Lithographie handelt es sich um ein Verfahren der Photopolymerisation. Mit dieser Methode können hochpräzise 3D-Mikrostrukturen hergestellt werden. Es sind Auflösungen bis unter 25 nm^[1] möglich. Das Verfahren wurde 1997 von Shoji Maruo, Osamu Nakamura und Satoshi Kawata an der Universität Osaka entwickelt.^[2] Das Verfahren ist auch unter dem Namen Laserdirektschreiben, Zwei-Photonen-Polymerisation und Multi-Photonen-Druck bekannt.

↑ Dengfeng Tan, Yan Li, Fengjie Qi, Hong Yang, Qihuang Gong, Xianzi Dong, Xuanming Duan: Reduction in feature size of two-photon polymerization using SCR500. In: Applied Physics Letters. Band 90, Nr. 7, 12. Februar 2007, ISSN 0003-6951, S. 071106, doi:10.1063/1.2535504 (scitation.org [abgerufen am 5. Dezember 2022]).
↑ Shoji Maruo, Osamu Nakamura, Satoshi Kawata: Three-dimensional microfabrication with two-photon-absorbed photopolymerization. In: Optics Letters. Band 22, Nr. 2, 15. Januar 1997, ISSN 1539-4794, S. 132–134, doi:10.1364/OL.22.000132 (optica.org [abgerufen am 5. Dezember 2022]).

[1] Dengfeng Tan, Yan Li, Fengjie Qi, Hong Yang, Qihuang Gong, Xianzi Dong, Xuanming Duan: Reduction in feature size of two-photon polymerization using SCR500. In: Applied Physics Letters. Band 90, Nr. 7, 12. Februar 2007, ISSN 0003-6951, S. 071106, doi:10.1063/1.2535504 (scitation.org [abgerufen am 5. Dezember 2022]).

[2] Shoji Maruo, Osamu Nakamura, Satoshi Kawata: Three-dimensional microfabrication with two-photon-absorbed photopolymerization. In: Optics Letters. Band 22, Nr. 2, 15. Januar 1997, ISSN 1539-4794, S. 132–134, doi:10.1364/OL.22.000132 (optica.org [abgerufen am 5. Dezember 2022]).

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