Chloortrifluoride

Chloortrifluoride
Structuurformule en molecuulmodel
Structuurformule van chloortrifluoride
Molecuulmodel van chloortrifluoride
Algemeen
Molecuulformule ClF3
IUPAC-naam chloortrifluoride
Molmassa 92,45 g/mol
SMILES
FCl(F)F
InChI
1S/ClF3/c2-1(3)4
CAS-nummer 7790-91-2
Wikidata Q411305
Waarschuwingen en veiligheidsmaatregelen
OntvlambaarDrukhouderCorrosiefToxisch
Gevaar
H-zinnen H330 - H270 - H314 - H280
EUH-zinnen EUH071
P-zinnen P260 - P280-P244-P220- P304+P340 - P303+P361+P353- P305+P351+P338-P370+P376- P405-P403
Omgang Niet inademen, contact en blootstelling vermijden.
Fysische eigenschappen
Aggregatietoestand gasvormig
Kleur kleurloos
Smeltpunt −76,3 °C
Kookpunt 11,75 °C
Thermodynamische eigenschappen
ΔfHog −164,60 kJ/mol
ΔfHol −189,5 kJ/mol
Sog, 1 bar 282,15 J/mol·K
Tenzij anders vermeld zijn standaardomstandigheden gebruikt (298,15 K of 25 °C, 1 bar).
Portaal  Portaalicoon   Scheikunde

Chloortrifluoride is een interhalogeenverbinding met als brutoformule ClF3. Dit kleurloze, giftige, corrosieve en uiterst reactieve gas condenseert tot een lichtgeelgroene vloeistof. Het is in de laatste vorm dat de verbinding meestal verhandeld wordt (onder druk bij kamertemperatuur).

De verbinding is vooral van belang als de oxiderende component van raketbrandstof en als een industrieel schoonmaak- en etsmiddel in de halfgeleiderindustrie,[1][2] de verwerking van kernbrandstoffen[3] en andere industriële toepassingen.[4]

  1. Hitoshi Habuka, Takahiro Sukenobu, Hideyuki Koda, Takashi Takeuchi, and Masahiko Aihara (2004). Silicon Etch Rate Using Chlorine Trifluoride. Journal of the Electrochemical Society 151 (11): G783–G787. DOI: 10.1149/1.1806391.
  2. U.S. Patent 5849092 , "Process for chlorine trifluoride chamber cleaning"
  3. Board on Environmental Studies and Toxicology, (BEST) (2006). Acute Exposure Guideline Levels for Selected Airborne Chemicals: Volume 5 (citation at the National Academies Press). National Academies Press, Washington D.C., p. 40. ISBN 0-309-10358-4.
  4. U.S. Patent 6034016 , "Method for regenerating halogenated Lewis acid catalysts"

© MMXXIII Rich X Search. We shall prevail. All rights reserved. Rich X Search