Recuit thermique rapide

Le recuit thermique rapide (sigle RTA en anglais[1]) est un procédé de fabrication qui porte, par exemple, le wafer de silicium à haute température (jusqu'à 1 200 °C ou plus) dans un temps très court, quelques secondes.

  1. (en) Recuit thermique rapide, RTP et RTA, sur crystec.com, consulté le 19 septembre 2016.

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