250 nm process

This article needs additional citations for verification. Please help improve this article by adding citations to reliable sources. Unsourced material may be challenged and removed. Find sources: "250 nm process" – news · newspapers · books · scholar · JSTOR (November 2017) (Learn how and when to remove this template message)

Semiconductor device fabrication
MOSFET scaling (process nodes)
020 µm – 1968 010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977  1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 028 nm – 2010 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020 003 nm – 2022
Future 002 nm ~ 2024
Half-nodes Density CMOS Device (multi-gate) Moore's law Transistor count Semiconductor Industry Nanoelectronics
v t e

The 250 nm process (250 nanometer process or 0.25 μm process) is a level of semiconductor process technology that was reached by most manufacturers in the 1997–1998 timeframe.